显影液-河南微纳半导体科技有限公司

显影液

(1)高纯度有机碱性 MIF 显影液

(2)无机碱性水性显影液

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产品详情

概要及特性

1）高纯度有机碱性 MIF 显影液

AZ 300MIF显影液

无表面活性剂的标准显影液（TMAH2.38%)适用于各种显影工艺如 Puddle , Dip 等无表面活性剂使 Spray 显影成为可能
AZ 600MIF显影液
含表面活性剂的标准显影液（TMAH2.38%)
有效去除显影后及高对比度微细图形加工后的微小残留
2）无机碱性水性显影液
AZ 显影液
通用正型光刻胶显影液
由于含有金属离子，它不是为半导体工业而优化。
AZ 400K显影液
用于厚膜正型光刻胶的专用显影液
有效抑止光刻胶表面的显影损失现象
AZ 303N显影液
AZ PLP 系列光刻胶和 AZ 8100系列光刻胶的专用显影液

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